Orientador : Carlos Ignacio Mammana

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas

Resumo: A litografia faz parte do conjunto de técnicas que concorrem para a fabricação de circuitos integrados em microeletrônica. Dentro do campo da litografia, a chamada litografia óptica é a técnica melhor estabelecida e a mais difundida. Seu uso implica na utilização de máscaras durante o...

Resumo: A litografia faz parte do conjunto de técnicas que concorrem para a fabricação de circuitos integrados em microeletrônica. Dentro do campo da litografia, a chamada litografia óptica é a técnica melhor estabelecida e a mais difundida. Seu uso implica na utilização de máscaras durante o processo de fotogravação. Essas máscaras podem ser obtidas a partir de reduções fotográficas de artes finais confeccionadas em "Rubylith" ou fotolito contendo a representação ampliada (100 a 200 vezes) das configurações desejadas. Neste trabalho é descrita a implantação de um sistema automático de desenho (SAD) para ser utilizado na geração dessas artes finais, tanto em "Rubylith" como em fotolito. O SAD é apresentado contendo três elementos: o de "hardware", o de "software" e o de óptica. O Elemento de "Hardware" além do controle elétrico engloba as partes mecânicas dos equipamentos, que compõem o SAD: coordenatógrafo com motivos de passo, adaptador de ferramenta de corte ou desenho ao coordenatógrafo, console, bastidor e leitora de fita de papel. O Elemento de "Software" engloba as sequências de instruções reconhecíveis pelo Elemento de Hardware" para gerar os desenhos desejados (PROGRAMAS DE DESENHO) e os programas (PROGRAMAS DE INTERFACE) que servem como meio de tradução dos dados de artes finais gerados por computador para a forma de PROGRAMAS DE DESENHO. O Elemento de óptica engloba ,a parte óptica do sistema para sensibilização de fotolito: uma fonte luminosa conectada a um módulo projetor por meio de um cabo de fibras ópticas

Abstract: Not informed