Please use this identifier to cite or link to this item: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/84624
Type: Patente
Title: Forno De Nitretação IÈnica Com Catodos Múltiplos
Author: Wisnivesky Daniel
Abstract: FORNO DE NITRETAÇÃO IÔNICA COM CATODOS MÚLTIPLOS. Novo conceito e equipamento de forno para nitretação de metais, com múltiplos catodos independentes, utilizando a tecnologia de plasma pulsado. Onde a corrente de plasma é pulsada separadamente para cada catodo segundo as condições especificas da carga distribuída em cada região. O qual é largamente utilizado nas indústrias metalúrgicas em geral. Sendo um forno dividido em um conjunto de cargas em paralelo que apresentam uma inclutância reduzida e uma capacitãncia aumentada. Onde estes efeitos se combinam para diminuir o tempo de crescimento da descarga; com o mesmo sendo alimentado por uma fonte pulsada, que apresenta uma carga indutivo-capacitiva que limita o crescimento da corrente de plasma em cada pulso, produzindo inhomogeneidades e sobre-aquecimento na carga. Com a fonte concebida de forma modular, com vários chaveadores independentes de menor potência para dupla de catodo-anodo, e com características especificas para proporcionar um pulso de corrente essencialmente quadrado.
Rights: aberto
Date Issue: 2-Sep-2008
Appears in Collections:Patentes

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
pat_BRPI0700308.pdf815.07 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.