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Type: Patente
Title: Processo De Fabricação De Preformas De Sìlica De Alta Eficiência Para Fibras ópticas
Author: Suzuki Carlos Kenichi
Ogata Daniela Yuri
Torikai Delson
Sekiya Edson Haruhico
Shimizu Hiroshi
Abstract: No processo VAD para fabricação de preformas para fibras ópticas, normalmente utiliza-se de maçarico(s) especial(is) para a deposição da sílica e dopagem com germânio. O processo de dopagem por deposição axial e/ou excêntrico ao eixo da preforma no estado vapor, VAD, descrito nesta patente, separa a alimentação de insumos de silício e germânio (SiCI4 e GeCI4) de formas independentes, depositando-se a sílica através do maçarico VAD convencional, e direcionando-se o fluxo de germânio através do uso de injetor capilar. Por esse processo pode-se controlar a velocidade, a vazão e a direção de incidência do fluxo de vapor de germânio, soprado pelo tubo capilar, relativo ao fluxo de vapor de silício, soprados pelo maçarico VAD, e relativos a preforma em deposição causando uma mistura localizada dos haletos metálicos e ao mesmo tempo alterando a temperatura e caráter (redutor/oxidante) localizado da atmosfera. Dessa forma, promove-se a deposição de germânio de forma diferenciada e com elevada eficiência, "moldando-se" um ou mais perfis de concentração de germânio ao longo do raio da preforma, isto é, um perfil gaussiano ou em forma de anéis concêntricos, ou um complemento dos dois perfis ("multiple concentric core").
Rights: aberto
Date Issue: 14-Jan-2003
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