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Type: TESE
Title: Intercalação de lítio em filmes finos de óxido de molibdênio
Author: Cruz, Tersio Guilherme de Souza, 1967-
Advisor: Gorenstein, Annette, 1953-
Abstract: Resumo: Neste trabalho foram estudadas as propriedades de filmes finos de óxido de molibdênio depositadas por sputtering reativo, variando-se o fluxo de oxigênio (f) durante a deposição e mantendo-se os outros parâmetros de deposição constantes. A microestrutura e a composição dos filmes foram analisadas por Difração de Raios-X, Retroespalhamento de Rutherford e Espectroscopia de Fotoelétrons. O filme depositado em mais baixo fluxo de O2 foi identificado como MoO2. Com o aumento de f, os filmes evoluíram segundo o esquema: amorfo => (MoO2.8+a-MoO3)=>b-MoO3=> (MoO2.8+b-MoO3). O comportamento das amostras frente à intercalação eletroquímica foi estudado em meio orgânico, contendo íons Li+, acompanhando-se as variações de transmitância (efeito eletroquímico) e as tensões mecânicas envolvidas no processo de inserção/de-inserção reversível de íons/elétrons na rede cristalina. Todas as amostras, exceto a de composição MoO2, são eletrocrômicas. A variação de tensão mecânica, em média, foi de 108 N m-2, para uma carga intercalada de 20mC/cm2. O filme que apresentou conjuntamente as melhores propriedades ópticas e mecânicas tem estrutura b-MoO3

Abstract: In this work, molybdenum oxide thin films deposited by reactive sputtering were studied. The oxygen flow (f ) during deposition was varied, and all other deposition parameters were maintained at constant values. The microstructure and composition were studied by X-Ray Diffraction, Rutherford Backscattering Spectrometry and X-Ray Photoelectron Spectroscopy. The film deposited at the lowest f was identified as MoO2. With the increase of f , the following microstructures were obtained: amorphous ® (MoO2.8 + a -MoO3) ® b -MoO3 ® (MoO2.8 + b -MoO3). The behavior of the samples upon intercalation was studied in a non-aqueous electrolyte containing Li+ ions. The transmittance changes and the induced mechanical stresses were followed during the reversible insertion/extraction of ions/electrons in the oxide structure. All samples, with the exception of the MoO2 film, showed an electrochromic behavior. The transmittance changes, for the best sample, was 70%. The mechanical stress changes was 108 N m-2. The film which allied the best optical and mechanical behaviour showed the b -MoO3 structure
Subject: Dispositivos de filme fino
Efeito da tensão
Language: Português
Editor: [s.n.]
Date Issue: 1998
Appears in Collections:IFGW - Dissertação e Tese

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