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Type: TESE
Title: Desenvolvimento de um sistema de pulverização catodica com multiplos alvos
Author: Silveira, Marco Antonio
Advisor: Mammana, Alaide Pellegrini, 1941-
Abstract: Resumo: Neste trabalho são apresentados os resultados obtidos com o desenvolvimento e estudo de um sistema de pulverização catódica (sputtering) com múltiplos alvos, na deposição de filmes de tântalo e silício com tensão DC. São apresentados os detalhes relativos ao projeto e à construção das diversas partes e conjuntos elétricos e mecânicos do sistema, bem como a avaliação dos seus desempenhos. O estudo realizado compreendeu a caracterização do sistema, visando determinar a inter-relação dos diversos parâmetros envolvidos no processo de deposição (corrente de alvo, tensão de alvo, pressão na câmara de deposição, blindagem do alvo, distância entre alvo e substrato, material do alvo, estrutura cristalina do substrato, pressão parcial do gás de trabalho e taxa de deposição do filme) e destes com as características dos filmes obtidos (uniformidade de espessura, aderência ao substrato, resistividade elétrica, estrutura cristalográfica, tamanho de grão e composição química) ... Observação: O resumo, na íntegra, poderá ser visualizado no texto completo da tese digital

Abstract: Not informed.
Subject: Filmes finos
Demicondutores
Language: Português
Editor: [s.n.]
Date Issue: 1988
Appears in Collections:FEEC - Tese e Dissertação

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