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Type: DISSERTAÇÃO
Degree Level: Mestrado
Title: Ataque quimico seletivo do silicio excitado por laser de Hene
Author: Thim, Gilmar Patrocinio
Advisor: Baranauskas, Vitor, 1952-2014
Abstract: Resumo: Neste trabalho apresentamos uma técnica para a abertura de janelas no silício monocristalino tipo N com avaliação da profundidade de ataque em tempo real , baseado na reação fotoinduzida do silício com HFaq quando excitado por um laser de HeNe de 0,8 mW de potência atuando com o comprimento de onda de 6328 A. É apresentado também todo o modelamento matemático da cinética de ataque em termos de parâmetros físicos , entre eles o tempo de exposição, corrente total e a potência do laser

Abstract: Not informed.
Subject: Silício
Fotolitografia
Semicondutores
Language: Português
Editor: [s.n.]
Date Issue: 1988
Appears in Collections:FEEC - Tese e Dissertação

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