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Type: TESE
Title: Projeto e construção de um transistor com estrutura MOS usando a tecnica planar
Author: Moraes, Wilmar Bueno de, 1939-
Advisor: Mammana, Carlos Ignacio Zamitti, 1941-
Abstract: Resumo: Neste trabalho apresentamos o projeto, a construção e a caracterização de um transistor de efeito de campo com estrutura MOS {metal-óxido-semicondutor}. Inicialmente é apresentada uma descrição dos diversos tipos de estrutura e dos processos viáveis, no momento, para a fabricação de TEC MOS. Adotando um modelo elétrico derivado de um modelo físico dos TEC MOS foram estabelecidos critérios para o dimensionam mento da estrutura de um transistor: a determinação de suas dimensões e características elétricas dos materiais envolvidos. Este modelo, por outro lado, nos permitiu relacionar à estrutura, os seguintes parâmetros elétricos mensuráveis: características elétricas intereletródicas, tensões de ruptura, tensão de transição, densidade de cargas na interface silicio-óxido, mobilidade das lacunas no canal, velocidade térmica das lacunas no canal, e resistências terminais da fonte e do dreno. Os transistores foram fabricados por meio da técnica planar em substratos de siliciocom orientações <111> e <100>, e resistividade com ordem de grandeza de 10 ohm cm; o óxido da porta foi crescido com oxigênio seco empregando-se passivação com fósforo para a diminuição de correntes de fuga. A porta foi protegida por meio de um diodo em paralelo com a mesma. Várias séries de transistores foram medidas obtendo-se como resultado que o processo de fabricação empregado foi satisfatório tanto quanto à qualidade como quanto à reprodutibilidade e que o modelo adotado é suficientemente preciso para ser usado no projeto e avaliação dos transistores de efeito de campo MOS com a estrutura utilizada

Abstract: Not informed
Subject: Transistores
Semicondutores
Eletrônica
Language: Português
Editor: [s.n.]
Date Issue: 1975
Appears in Collections:FEEC - Dissertação e Tese

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