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Type: DISSERTAÇÃO
Degree Level: Mestrado
Title: Determinação de parametros cineticos e caracterização eletrica de filmes de SiO2 produzidos por oxidação termica pirogenica do Si
Author: Costa, Jose Camargo da
Advisor: Mammana, Carlos Ignacio Zamitti, 1941-
Abstract: Resumo: Neste trabalho são apresentados os resultados de investigações acerca de características de filmes finos de SiO2 produzidos por oxidação térmica pirogênica do Si. Utilizaram-se de substratos de silício, tipo N, orientação <100>, com resistividade na faixa de 4 a 6O .cm. Foram obtidos dados de espessura de óxido x tempo de oxidação (a temperaturas de 950ºC, 1050ºC e 1150ºC); parâmetros cinéticos da oxidação e respectivas energias de ativação; densidade de cargas fixas no óxido; densidade e cargas móveis no óxido; densidade de cargas capturadas na interface SiO2 - Si; campo de ruptura do óxido e parâmetros de geração-recombinações de portadores no semicondutor. Os resultados obtidos, à exceção dos valores determinados para os parâmetros de geração-recombinação, correspondem aos resultados na literatura para filmes de SiO2 térmico de boa qualidade.

Abstract: Not informed.
Subject: Oxidação
Semicondutores
Silício - Propriedades elétricas
Language: Português
Editor: [s.n.]
Date Issue: 1982
Appears in Collections:FEEC - Tese e Dissertação

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