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Type: Artigo de periódico
Title: Li+ distribution into V2O5 films resulting from electrochemical intercalation reactions
Author: Decker, Franco
Donsanti, Frederique
Salvi, Anna Maria
Ibris, Neluta
Castle, James E.
Martin, Franz
Alamarguy, David
Vuk, Angela Surca
Orel, Boris
Lourenco, Airton
Abstract: We studied interface effects of thin film V2O5 electrodes on top of indium tin oxide (ITO) glass for Li intercalation by means of a combination of methods: depth-profiling by secondary ion mass spectroscopy (SIMS), electrochemical insertion-extraction of lithium ions by slow-scan cyclic voltammetry (SSCV) and by potentiostatic intermittent titration technique (PITT). We show that the Li+ distribution inside the oxide film is always far from homogeneous, and that different diffusion paths (parallel to interfaces as well as perpendicular to them) have to be considered in experiments with electrodes having areas of few cm². The exposed edge formed when cutting out coupons from the coated glass plate supporting the V2O5 electrode plays a significant role in the process, because it exposes the V2O5-ITO interface to the electrolyte.
Estudamos os efeitos de interface de filmes finos de eletrodos de V2O5 sobre vidros com óxido de índio-estanho (ITO) para intercalação de Li utilizando combinações de métodos: perfil de profundidade por espectrometria de massas de íons secundários (SIMS), inserção-extração eletroquímica de íons lítio por voltametria cíclica de varredura lenta (SSCV) e por técnica de titulação potenciostática intermitente (PITT). Nós demonstramos que a distribuição de Li+ no interior do filme de óxido é sempre distante de ser considerada homogênea e que diferentes etapas de difusão (paralelas às interfaces e bem como perpendiculares a elas) são consideradas por conter áreas de alguns cm² em experimentos com eletrodos. A margem exposta pelo corte da placa de vidro revestida com ITO e recoberta com V2O5 desempenha um papel importante no processo, pelo fato de expor a interface V2O5-ITO ao eletrólito.
Subject: electrochromism
V2O5
Li insertion
SIMS depth profile
ITO
Editor: Sociedade Brasileira de Química
Rights: aberto
Identifier DOI: 10.1590/S0103-50532008000400009
Address: http://dx.doi.org/10.1590/S0103-50532008000400009
http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0103-50532008000400009
Date Issue: 1-Jan-2008
Appears in Collections:Artigos e Materiais de Revistas Científicas - Unicamp

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